nkysdb: 共著者関連データベース
島津 正司 様の 共著関連データベース
+(A list of literatures under single or joint authorship with "島津 正司")
共著回数と共著者名 (a list of the joint author(s))
発行年とタイトル (Title and year of the issue(s))
1962: NaOH leaching処理を経た粒度別セキエイ粉末のX線回折強度について
1962: 乾式機械摩砕によるシリカ鉱物の構造変化について （1）セキエイについて
Structural Change of Silica Minerals by Dry Mechanical Grinding (1) Quartz
1962: 乾式機械摩砕によるシリカ鉱物の構造変化について（2） リンケイ石について
On the Structural Change of Silica Minerals by Dry Mechanical Grinding (2), Tridymite
1963: NaOH処理を経たセキエイ粉末の粒度とX線回折強度との関係，ならびに極微細セキエイ粒子の構造乱れについて
Relationship between the Particle Size and the X ray Diffraction Intensity of the Quartz Powders Treated with NaOH Solution, and the Structural Disturbance of Crushed Microparticles of Quartz
1966: 摩砕による石コウ変態の変化
Grinding Effect on the Transformation in Gypsum Modifications
1968: 銅ホイスカースの生成
Formation of Copper Whiskers
1971: 二三の物質のX線コンプトン・プロフィルについて
1972: X線非弾性散乱測定によるV O系化合物の電子状態について
1972: 高温型Nb2O5と類似構造の系列について 仮想構造を含む
Series of the Structures Analogous to the High temperature Form of Nb2O5 (Including Hypothetical Structures)
1973: 連続X線回折法（エネルギー分散型）の応用（1）−−微量粉末試料の回折像の観察−−
1973: 連続X線回折法（エネルギー分散型）の応用（2）−−異常分散効果の観察−−
1973: 連続X線回折法（エネルギー分散型）の応用（3）−−シリカガラスの動径分布解析−−
1974: エネルギー分散型測定による非晶質散乱のCompton成分の実験的除去
Experimental Removal of the Compton Component in Amorphous Scattering by Means of the Energy Dispersive Type of Measurement
1974: 半導体検出器とそのX線回折法への応用
Semiconductor Detector and Its Applications to the X ray Diffraction Method
1976: 層構造型複合ビスマス酸化物生成の可能性
Possibility of the Formation of Mixed Bismuth Oxides with Layer Structure
1977: 円柱形試料の一部にX線を照射した場合の回折X線の吸収補正因子
Absorption Correction Factor to the Diffraction Intensity in the Case of a Cylindrical Sample Partially Irradiated by X ray Beam in Diffraction
1978: Bi4Ti3O12の低温領域におけるX線解析.誘電性の変則的挙動
1982: Bi4Ti3O12の低温における誘電異常
Dielectric Anomaly of Bi4Ti3O12 at Low Temperature
1982: 複合ビスマス酸化物の誘電異常
