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産総研
last updated 2024.4.8
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補足情報
中村 健（Ken Nakamura）
国立研究開発法人産業技術総合研究所
計量標準総合センター 分析計測標準研究部門（ウェブサイト）キャリアエキスパート
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央事業所2群 2-10棟
TEL：029-861-5300（部門代表電話）
E-mail：ken.nakamura*aist.go.jp（*を@に変更して使用してください。）
Researchmap（ウェブサイト）
ORCID（ウェブサイト）
研究領域
  • 物理化学および分析化学：特に化学反応学、半導体表面化学、表面・界面分析
  • 応用物理学：材料科学、特に電子材料プロセス工学、薄膜・表面界面物性　など。
これまでの　研究業務概要
  1. 非線形光学効果を用いた固体表面分析・評価手法の開発
    • 媒質の反転対称中心の欠落が、2次非線形光学効果である第二高調波発生(SHG)の要件である。固体表面はこの要件を常に満たすので、これを用いた表面分析・評価手法の開発を行い、表面プロセスの高感度・高選択的な評価を非破壊・その場(in-situ)で実現した。[A.1],[A.2],[A.3]
    • 大気中で評価できる光電子収量分光法の光電子放出に2光子吸収を利用することで、実環境下で励起状態ダイナミクスの観察が可能となることを実証した。[A.24]

  2. 半導体表面における反応性分子の初期吸着過程の解析
    • 上記手法を応用して、半導体（シリコン）表面での活性小分子（水素、酸素、オゾン、有機物など）の初期吸着反応過程の解析を行い、上記手法の有用性を実証すると同時に、Si(111)7x7及びSi(100)2x1表面のダングリングボンドやバックボンドなどの吸着サイトとしての役割を明らかにした。[A.4],[A.5],[A.6],[A.8]
    • 走査プローブ顕微鏡によって、Si(100)表面のオゾン初期吸着過程の特徴を解析した。[A.16]

  3. オゾンによる極薄酸化膜作製技術の開発と評価
    • デバイスプロセスへの応用を目指して、高濃度オゾンにより作製した極薄シリコン酸化膜等の酸化膜の成長機構の解明と膜質の評価を行い、界面の構造遷移層が極めて薄いなどのオゾン酸化の特長を明らかにした。[A.9]~[A.12],[A.14],[A.15],[A.17]～[A.20],[A.23]
    • オゾン及びその誘導体を一方の前駆体ガスに用いた原子層堆積法(ALD) により極薄金属（またはシリコン）酸化膜を作製し、その優れた特性を顕微法や分光法などの複数のナノ計測法を駆使して明らかにした。[C.6],(A.26)
    • 共同研究先企業が本技術に特化した子会社を設立し、事業を展開している。

  4. 真空及び気相中の材料プロセス：反応解析と計測・制御
    • 有機ケイ素化合物とオゾンの紫外光照射下における化学気相成長(CVD)プロセスにおいて、副反応抑制のため、前駆体分子間の気相反応生成物や反応部位を赤外吸収分光と質量分析で解明すると同時に、オゾンの分解率(濃度)の評価を行った。高濃度オゾンとアルケンの気相反応によるOHラジカルの生成を確認した。[A.21],[A.22],(A.25),(A.27)
    • マイクロ波による無電極放電で低速イオンを効率よく引き出すイオン源を開発した。[A.7]
    • 真空装置の試料導入室での試料汚染への排気系と大気暴露の影響を明らかにした。[A.13]

  5. ナノ計測の機器公開拠点の構築とマテリアルDXの推進
    • 光分析機器・質量分析機器・電子線応用分析機器・バイオ分析機器など計測分析機器への市場・社会ニーズや技術動向の調査研究を行った。[E.4]
    • ナノ計測に基づく各種分析機器公開利用の拠点を上記調査研究を踏まえて構築し、これを通じたナノ物質・ナノ材料の多種多様な情報の公開と共有、さらにはマテリアルデータの収集・蓄積・利活用を行い、ナノテクノロジー・材料の研究開発の促進とマテリアル革新力の強化及びマテリアルDXの実現を目指している。
主要研究従事項目
◇工業技術院電子技術総合研究所において

  • 工業技術院指定研究 サンシャイン計画「太陽光発電用半導体材料の解析・評価技術の研究」 1990年～1997年
  • 工業技術院特別研究 「表面エレクトロニクスの研究」1996年～1998年
  • 工業技術院重要技術の競争的研究開発 「極限酸化技術を用いた微細構造限界デバイスの研究」（研究代表者：清水肇、坂本統徳）1998年～2001年

    • ◇産業技術総合研究所において

  • 産総研運営費交付金 「先端シリコンデバイスの研究」 2001年～2002年
  • 新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）ナノテクノロジープログラム 「３Ｄナノメートル評価用標準物質創成技術の開発事業」（研究代表者：小島勇夫）2002年～2007年
  • NEDO基盤技術研究促進事業 「超高濃度オゾン活用の高品質Si酸化膜低温形成技術と装置の開発」（研究代表者：花倉 満）2007年
  • NEDO 革新的部材産業創出プログラム 「超ハイブリッド材料技術開発（ナノレベル構造制御による相反機能材料技術開発）」（PL：阿尻雅文）2008年～2012年
  • 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム（PD：田中一宜・大泊 巌・佐藤勝昭）「産総研微細構造解析プラットフォーム」（実施責任者：大久保雅隆・齋藤直昭・中村 健）2012年～2022年
  • 文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）（PD：曽根純一）「マテリアル先端リサーチインフラ（量子・電子マテリアル領域 産総研スポーク）」（業務主任者：多田哲也/小笹健仁、担当責任者：小笹/多田、中村 健）2021年～
  • 民間企業との資金提供型共同研究

    • など．
    受賞
  • 第2回（1997年春季）応用物理学会講演奨励賞 (社団法人 応用物理学会　1997年7月) 受賞者一覧
  • 電子技術総合研究所業務表彰業績賞 (工業技術院電子技術総合研究所　2000年7月)
  • 第13回つくば奨励賞 (実用化研究部門) (財団法人 茨城県科学技術振興財団　2003年2月) 受賞者一覧
    • 所属学協会
  • 日本化学会　　会員　（1988年～）
  • 日本物理学会　会員　（1990年～）
  • 応用物理学会　会員　（1990年～）薄膜・表面物理分科会員（1990年～）シリコンテクノロジー分科会員（1999年～）
  • 米国真空学会（American Vacuum Society: AVS)　会員　（1995年～）
  • 日本真空協会（日本真空学会を経て、現･日本表面真空学会）　会員（2009年～）
  • 次世代センサ協議会　会員（2017年～）
    • 学協会等での主な活動
    1. 第55回真空に関する連合講演会実行委員会：副実行委員長　2013～2014年
    2. 最新 実用真空技術総覧 編集委員会：編集委員（幹事）(第1部第7編, 第2部第7編, 同第8編担当，分担執筆 [D.1])　2014年～2019年
    3. 第56回真空に関する連合講演会：プログラム委員長（2015年真空・表面科学合同講演会合同プログラム委員長）2014年～2015年
    4. 日本真空学会：理事　2015～2018年
    5. 日本真空学会 講演・研究会企画委員会：委員長　2015～2017年（報告 [F.13]）
    6. 第58回真空に関する連合講演会：実行委員長（2017年真空・表面科学合同講演会委員会合同副委員長）2016～2017年（報告 [F.12]）
    7. International Union for Vacuum Science, Technique and Applications (IUVSTA), Surface Engineering Division：Representative,　2016～2019年
    8. 次世代センサ協議会 技術委員会：委員（材料WG主査）2018年～2023年、副委員長（材料WG主査）2023年～
    9. 日本表面真空学会：協議員　2018年～
    10. The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22), Exhibition Committee： Member, 2019年～2022年
    ほかに、外部機関
    • Elsevier Science、AIP、Electrochemical Society、IEEE
    等刊行の学術雑誌の査読に随時協力．
    その他の主な業務貢献
    1. 電総研創立100周年記念事業研究所公開委員会：展示総合班班員（エネルギー3部担当）1991年
    2. 電総研広報委員会：委員（極限技術部担当）1995～1997年
    3. 産総研技術情報部門：技術情報調査員（平成13年度産業技術交流調査(研究論文調査)・ナノテクノロジー・材料技術「表面・界面修飾」担当）2001～2002年
    4. 産総研つくば中央第二事業所：安全衛生委員会委員　兼　ユニット安全担当者（極微プロファイルラボ担当）　2003～2004年
    5. 産総研企画本部：企画主幹（計画・評価（研究）担当、研究ユニット設計・評価担当、標準・計測分野担当、評価部担当、運営諮問会議事務局）2005～2006年
    6. 産総研計測フロンティア研究部門：計測フロンティア研究部門シンポジウム　第3回及び第5回実行委員(2006～2007年及び2008～2009年)　及び　第7回実行委員長代理(2010～2011年)
    7. 産総研コンソーシアム｢高濃度オゾン研究会｣：幹事役　2009年～2020年
    8. 産総研ナノインテリジェント計測調査委員会：事務局　2010～2011年 （報告書分担執筆 [E.4]）
    9. 産総研つくば中央第四事業所：事業所会議委員　兼　安全衛生管理者（計測フロンティア研究部門担当）　2010年～2013年
    10. 産総研計量・計測システム分野技術戦略マップ作成WG：メンバー　2013年
    11. 産総研先端ナノ計測施設(ANCF)：施設管理者　2021年～
    12. 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム（PF）事業: 産総研微細構造解析PF　実施責任者　2021年
    13. 文部科学省マテリアル先端リサーチ（ARIM）事業: 量子・電子マテリアル領域 産総研スポーク　担当責任者　2021年～
    ほかに1994年以降、外部機関
    • 新エネルギー・産業技術開発機構（NEDO）(提案研究課題審査)
    • 国際協力事業団（当時：JICA）(技術指導)
    • 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業及び同マテリアル先端リサーチ（ARIM）事業 （プロジェクト運営）
    等の業務に随時協力．
    　　
    その他

    [公務で取得した資格]

  • 第一種衛生管理者　及び　衛生工学衛生管理者
  • 有機溶剤作業主任者
  • 特定化学物質及び四アルキル鉛等作業主任者
  • 甲種危険物取扱者
  • 乙種化学 高圧ガス製造保安責任者

    • [公務での海外渡航歴] 　19回　（旧・研究交流促進法による渡航を含む）

  • 北米： 10回
  • 欧州： 7回
  • アジア：1回（韓国）
  • 大洋州：1回（豪州）

    • [外国語運用能力]

  • 英語：上級 （英検1級、TOEIC955点）
  • 独語：中級 （独検2級；現準1級に相当）
  • 仏語：中級 （仏検2級）
    • など。
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