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産総研
研究設備
装置名 和周波発生分光装置 (10 Hz 二重共鳴SFG対応)
製造 EKSPLA

SFG spectrometer
構成
Diode pumped Nd:YAG (10Hz, 25ps, 130mJ), 光パラメトリック発振/増幅/差周波発生器 (2台), 前置分光器, 分光器 (MS2004i)
用途
和周波分光測定、二重共鳴和周波測定、時間分解和周波測定
装置名 和周波発生分光装置 (50 HzDPSS  Laser)
製造 EKSPLA

構成
DPSS pumped Nd:YAG (50Hz, 25ps, 40mJ), 光パラメトリック発振/増幅/差周波発生器, 分光器 (MS2004i), XY面内自動ステージ
用途
和周波分光測定
装置名 フーリエ変換赤外分光光度計 FT/IR-6600
製造 日本分光

FT-IR
構成 ATR(1回反射)付属, IRAS
用途 赤外吸収スペクトル測定
装置名 共焦点ラマン顕微鏡 Nanofinder FLEX
製造 東京インスツルメンツ

Raman-microscope
構成 532nm DPSSレーザー、 3Dピエゾスキャナ、イメージング分光器(MS3504i)、CCD
用途
Raman測定、Ramanイメージング測定

表面洗浄、改質
装置 プラズマ洗浄器 オ ゾン洗浄器




Parrick Plasma Cleaner PDC-32G
Filgen UV253E
用途 ガラス、樹脂基板などの 表面洗浄、ポリマーなどの表面改質
その他 ・接触角計(協和科学、DMo-401)
・表面電位測定装置(KPテクノロジー社製:KP020-AM)
・真空蒸着装置 (ULVAC VPC-260、DP排気)
・アッベ屈折計(アタゴ DR-A1)
・多波長アッベ屈折計(アタゴ DR-M2)
・研磨機(マルトー製 MC-503S)
・超純水製造装置(ミリポア、 Simplicity UV)
・電気化学測定装置(北斗電工、HSV-100F)
・定温乾燥器(東京理化)
・顕微鏡冷却加熱装置(ジャパンハイテック製 LK-600PM)
・赤外カメラ(NEC Avio, F30-A01)

・ソースメジャーユニット(Agilent、B2901A、B2902A)
・CCDレーザー変位計(キーエンス)
・デジタルストレージオシロスコープ
・デジタル遅延パルス発生器(SRS製 DG535、DG645)
保有レーザー ・Ar+レーザー(Melles Griot, 35-MAP-431)
・He-Neレーザー(シグマ光機 05-LHP-213, 1 mW)