最近の講演・セミナー記録


■ 主催: 日本真空協会・日本真空工業会
■ 日時: 平成22年9月1日(水) 13:00-16:45
■ 会場: 東京ビッグサイト 会議棟605会議室
■ 講演会名:真空トピックス 「201X時代のスパッタリング技術」
■ プログラム
[1] 13:00-13:05 「開会の挨拶」
ISSP2011実行委員長 中川原 修 (株式会社 村田製作所)
[2] 13:05-13:45 「次世代電子デバイス用スパッタ成膜技術」
中川 隆史(キヤノンアネルバ株式会社 半導体装置技術部)
[3] 13:45-14:25 「ミニマルファブ構想〜ハーフインチ化による生産性向上」
原 史朗(産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門)
[4] 14:25-15:05 「Impact of Sputter Materials and Sputter Techniques on Large Area Coatings」
Dr. Gerd Kleideiter(Applied Materials GmbH & Co. KG)
[5] 15:20-16:00 「透明酸化物半導体:最近の展開から」
細野 秀雄(東京工業大学 フロンティア研究センター)
[6] 14:25-15:05 「FPD用大型ガラス基板へのスパッタリング技術」
新井 真(株式会社 アルバック 千葉超材料研究所)
[7] 16:40-16:45 「閉会の挨拶」
日本真空協会 研究部会長 杉山 直治(株式会社 東芝)
講演会のご案内ページ:  真空展2010 講演会「真空トピックス」ご案内ページ




■ 主催: (財)福岡県産業・科学技術振興財団
■ 日時: 平成22年8月3日(火) 14:00-17:30
■ 会場: 福岡市・ホテルオークラ福岡
■ 会議名:「福岡先端システムLSI開発拠点推進会議」
■ プログラム
[1] 14:00-14:20 「開会挨拶」
推進会議会長 鎌田迪貞(九州電力椛樺k役)、福岡県知事 麻生渡、他
[2] 14:20-15:40 「特別講演」
・セミコンポータル編集長 津田 健二 「日本半導体、再び復活するための世界戦略」
・産総研 原史朗 「ミニマルファブ構想と今後の展開について」
[3] 15:55-16:35 「SSB福岡プロジェクトの新たな展開〜実装・実証センターの機能と役割〜」
・先端社会システム実証研究評価センター(仮称)センター長 安浦寛人
・半導体先端実装研究評価センター(仮称)センター長 開俊一
[4] 16:40-17:30 「議事」
シリコンシーベルト福岡プロジェクト
平成21年度事業報告および平成22年度事業計画(案)について ほか
■ 講演会のご案内ページ: (財)福岡県産業・科学技術振興財団 会議ご案内ページ




■ 主催: サイエンス&テクノロジー(株)
■ 日時: 平成22年4月22日(木) 10:30-16:30
■ 会場: 東京・大田区平和島 東京流通センター 2F 第5会議室
■ セミナー名:「局所クリーン化技術の基礎と生産、製造現場への導入、応用技術」
■ 講師:原 史朗 (産総研)
■ 講演概要:
 従来の歩留まり向上対策は、行き着くところまで来ているにもかかわらず、 激しいマーケット内競争で製造部門は厳しいコストダウンを強いられている。 幸いなことに、生産方式自体を革新し、従来の労苦を不要な物とする、新世代の局所クリーン化技術が誕生している。 すでに半導体前工程ではパーティクル遮断型の新世代局所クリーン化生産システムが開発され、 パーティクル起因歩留まりが大きく改善されると同時に、工場空調エネルギーの大幅削減が実現されている。 また、副次効果として、従来困難を伴った自動化が実際極めて容易になり、工場生産性の飛躍的向上を果たした。 これらのメリットは、半導体後工程・FPD・精密機械組立実装の広い産業分野において今後重要視されてくる。 また、局所クリーン化の次世代型であるガス遮断型方式を導入することで、水分・酸素・VOCなどの体系的ガス管理が可能になり、 従来不可能であった100%の良品率を超えた「完全均一品質生産」を指向することが可能になる。 またその環境分離技術としての有用性から、様々な環境対策、CO2削減への強力なソリューションともなってくる。  本講演では、その背景から原理、そして導入事例を解説し、さらに、今後の様々な産業への導入効果についても言及するとともに、 次世代型の具体的開発事例(ミニマルファブシステム)についても紹介する。
■ 講演会のご案内ページ: サイエンス&テクノロジー セミナーご案内ページ




■ 主催: サイエンス&テクノロジー(株)
■ 日時: 平成21年12月17日(木) 12:30-16:45
■ 会場: 東京・江東区有明 東京ビッグサイト会議棟 7F 702会議室
■ セミナー名:「SiCウェハの洗浄プロセスとクリーン化技術」
■ 予定プログラム(敬称略):
[1] 12:30-14:30 「SiCデバイス創製に応用できる新規化学プロセス」
小林 光 (大阪大学 産業科学研究所 教授)
[2] 14:45-16:45 「SiCのコンタミネーションコントロール 〜界面制御技術、ウェハ洗浄技術、ファクトリー技術」
原 史朗 (産総研)
■ 原の講演概要:
最近になってSiCは、基礎研究の段階をようやく脱し、生産へ向けての開発が進もうとしている。しかし、SiCのデバイスマーケットが発生するのはこれからであり、洗浄技術やファクトリー技術など生産品質とコストに関わる生産技術開発は、実はほとんど未着手の状態で、生産を意識する開発者は頭を悩ませているのが実情である。将来技術を開発することが1つのミッションである我々産総研では、SiCの生産技術の基礎研究を1980年代から行ってきた。  本講演では、我々の科学的成果をベースに、SiCの表面コンタミの原子制御と、具体的洗浄方法、それに、SiCデバイスを生産する上でのファクトリー技術のあるべき姿について、包括的に解説する。
■ 講演会のご案内ページ: サイエンス&テクノロジー セミナーご案内ページ





■ 主催: 日本エアロゾル学会
■ 日時: 平成21年11月19日(木) 10:00-17:00
■ 会場: 東京工業大学 大岡山キャンパス 西8号館E棟10階大会議室
■ 学会討論会名:第6回エアロゾルシンポジウム 〜様々な環境の室内空気質から学ぶもの〜
■ 予定プログラム(敬称略):
[1] 10:00-10:40 「室内空気:室内空気質研究に関する最近のトピック」
鍵 直樹(国立保健医療科学院)
[2] 10:40-11:30 「一般環境:環境微生物と室内インフルエンザの感染経路」
柳 宇(東北文化学園大学)
[3] 12:30-13:20 「一般環境:室内空気汚染のリスク管理-WHOの動向-」
東 賢一(近畿大学)
[4] 13:20-14:10 「職場環境:オフィス環境における超微粒子の現状-コピー機・プリンタからの放散」
中野祥一(ビジネス機械・情報システム産業協会)
[5] 14:10-15:00 「宇宙環境:宇宙開発とその環境に求められる有機汚染物質」
宮崎英治(宇宙航空研究開発機構)
[6] 15:10-16:00 「超清浄環境:超清浄環境の今後とアナログ歩留まり」
原 史朗(産総研)
[7] 16:00-16:50 「室内環境への応用:室内環境に関する数値シミュレーション技術 -環境の定量的評価から分子レベルの現象予測まで-」
諏訪好英(東京工業大学)
■ 講演会のご案内ページ: 日本エアロゾル学会・行事予定ページ (定員80名)





■ 主催: リアライズ理工センター
■ 日時: 平成21年5月29日(金) 10:00-16:45
■ 会場: 化学会館(東京・お茶の水)
■ 講演会名:「局所クリーン化の基礎と最新技術」
■ 予定プログラム(敬称略):
[1] 10:00-11:00 「局所クリーン化の基礎と最新技術」
原 史朗 (産総研)
[2] 11:05-12:35 「磁気ディスク装置(HDD)の組立ファブにおける 局所クリーン化適用事例」
加藤洋 (KATO技術経営研究所)
[3] 13:35-15:05 「ミニエンバイロメントに対応したクリーンルーム」
諏訪好英 (東京工業大学)
[4] 15:15-16:45 「クラス1万環境の局所クリーン化」
稲永健 (シーズシー(有))
■ 講演会のご案内ページ: PDF情報





■ 主催: 群馬県技術士会
■ 日時: 平成21年5月22日(金) 15:00-
■ 会場: 群馬産業技術センター 第1研修室
■ 講演会名:第8回技術講習会
■ 講演テーマ:
「ミニマルファブ構想 〜ディスクトップ製造装置群で、省エネ・省資源・超小設備投資を実現する〜」
■ 講師: 原 史朗 (産総研)
■ 講演会のご案内ページ: 群馬県技術士会活動状況ページ





■ 主催: 産業技術総合研究所
■ 日時: 平成21年2月23日(月) 13:00-17:30
■ 会場: 日本科学未来館 みらいCAN ホール (定員300 名)
■ 学会討論会名:第3回ミニマルマニュファクチャアリングシンポジウム −ミニマルマニュファクチャリングの産業展開−
■ 予定プログラム(敬称略):
[1] 13:00 開会あいさつ
五十嵐 一男(産総研 研究コーディネータ)
[2] 13:10 キーノート講演
「ミニマルマニュファクチャリングの産業展開-オンデマンド化によるムダの排除-」
吉川 弘之 (産総研 理事長)
「医薬品プロセス化学とグリーンケミストリー」
間瀬 俊明 (万有製薬 プロセス化学研究室長)
「マテリアルフローコスト会計による資源生産性の向上−環境負荷の削減とコストダウンの同時実現−」
安城 泰雄 (MFCA研究所 代表)
[3] 14:40 プレゼンテーション
「超微細インクジェットによるオンデマンドマニュファクチャリング」
村田 和広(産総研)
「製造のオンデマンド化・ミニマル化がもたらすもの-時間・空間・資源、そして競争力-」
中野 禅 (産総研)
「半導体生産システムとミニマルファブ構想-ファブシステム研究会活動報告-」
原 史朗 (産総研)
[4] 15:55 パネルディスカッション
モデレーター:三島 望 (産総研)
パネリスト:間瀬 俊明 (万有製薬), 安城 泰雄 (MFCA研究所), 村田 和広(産総研), 中野 禅 (産総研), 原 史朗 (産総研)
17:25 閉会挨拶
清水 敏美 (産総研 研究コーディネータ)
17:30 終了

■ 講演会のご案内ページ:シンポジウムご案内ページ





■ 主催: (社)日本物理学会, (独)産業技術総合研究所, (独)理化学研究所, 名古屋大学, 東京理科大学, 早稲田大学
■ 日時: 平成21年1月24日(土) 15:00〜17:30
■ 会場: 早稲田大学 大久保キャンパス55合巻 N棟大会議室・第1会議室
■ シンポジウムテーマ:「社会で期待される物理系博士人材」
■ プログラム(敬称略)
[1] 15:00〜15:05 開会挨拶
日本物理学会 会長 二宮 正夫
[2] 15:05〜15:30  「産学連携による実践的人材養成」
経済産業省 産業技術環境局 大学連携推進課長 谷 明人
[3] 15:30〜15:55  「ポスドク問題への対応」
(独)科学技術振興機構 理事長 北澤宏一
[4] 16:05〜17:25 パネルディスカッション 「実社会で活躍する物理系博士人材」
コーディネータ: 東京大学大学院工学系研究科 教授・副研究科長 北森 武彦
パネリスト: 日立製作所 研究開発本部 技師長 藤澤 浩道
日本電気 誘導光電事業部 エグゼクティブエキスパート 小田直樹
(有)クライメート・エキスパーツ 代表 松尾 直樹
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 原 史朗
「博士の生き方」管理人、化学メーカ勤務 奥井 隆雄
[5] 17:25〜17:30 閉会の挨拶
早稲田大学 研究戦略センター 準備室長 教授 中島 啓幾





■ 主催: 日本エアロゾル学会
■ 日時: 平成20年8月21日(木)
■ 会場: 金沢大学角間キャンパス自然科学本館 (石川県金沢市角間町)
■ 学会討論会名:第25回エアロゾル科学・技術研究討論会および国際シンポジウム2008 8月20日〜22日
■ 講演シンポジウム名:A2「クリーンテクノロジー:エアフィルタを中心に」10:00〜12:00
■ 招待講演題目:「ジーンズをはいてIC製造を可能にする局所クリーン化生産システム」
■ シンポジウム講師: 産業技術総合研究所 原 史朗 (10:00-10:40) ほか
■ 講演会のご案内ページ: 討論会情報ページ





■ 主催: 実環境計測・診断システム協議会
■ 日時: 平成20年7月17日(木) 13:30〜17:30
■ 会場: 東芝大分工場 厚生棟第1研修ホール (大分県・大分市)
■ シンポジウムテーマ:産総研"出前シンポジウム"
■ 予定プログラム(敬称略)
[1] 13:35〜13:45 開会挨拶
産総研九州センター立山所長、東芝大分工場長
[2] 13:45〜14:35  「3次元LSIの研究開発最新動向」
超先端電子技術開発機構 嘉田守宏
[3] 14:35〜15:25  「半導体素子の微細化・高性能化の極限追究と、微細化限界を超える新コンセプト技術の創出」
産総研ナノ電子デバイス研究センター長 金山敏彦
[4] 15:40〜16:30 「変種変量型生産システムの構築〜ミニマルマニュファクチャリングの適用」
産総研エレクトロニクス研究部門 原 史朗
[5] 16:30〜17:20 「半導体プロセスにおける異物および外観評価装置の開発」
産総研生産計測技術研究センター 坂井一文
[6] 17:20〜17:30 閉会挨拶
実環境計測・診断システム協議会 五十嵐一男、東芝大分工場プロセス生産技術部長 宮下直人
■ 講演会のご案内ページ: 実環境計測・診断システム協議会イベントページ
※協議会会員以外の参加も受け付けています。





■ 主催: (社) 日本能率協会
■ 日時: 平成20年4月17日(木) 13:40〜16:00
■ 会場: 幕張メッセ 6ホール 洗浄技術展展示会場(千葉県千葉市美浜区)
■ イベント名:TECHNO-FRONTIER 2008
■ 展示会テーマ:電子・機構部品 洗浄技術展 〜環境対応と高品質をささえる次世代洗浄技術〜
■ 講師:原 史朗(産総研)
■ 講演題目:特別講演会「ミニマルマニュファクチャリングと洗浄技術」 〜発想の転換!? 次世代製造技術のあり方〜
■ その他講師:日本産業洗浄協議会 シニアアドバイザー 平塚 豊
■ 講演会のご案内ページ: テクノフォロンティア2008情報ページ





■ 主催: プレスジャーナル
■ 日時: 平成20年4月9日(水) 13:00〜17:40
■ 会場: 学士会館(東京・千代田区・神保町)
■ シンポジウムテーマ:第78回VLSI FORUM 生産性向上・歩留り改善の最前線 〜直面する課題、競争力強化に必要な要素技術を徹底検証〜
■ 基調講演講師:原 史朗(産総研)
■ 基調講演題目:「半導体生産の将来像・進むべき方向性 」 〜ミニマルシステムの導入が半導体製造をこう変える〜
■ その他講師:チャータード・セミコンダクター・ジャパン フィールドエンジニアリング部長 志澤弘氏他
■ シンポジウムのご案内ページ: シンポジウム報告





■ 主催: リアライズAT(株)
■ 日時: 平成19年10月30日(火) 10:00〜16:35
■ 会場: 化学会館(東京・お茶の水)
■ テーマ: 「新世代の局所クリーン化生産技術 〜転送メカ,コンタミ除去・制御・計測などその全体像を解説〜」
■ 予定プログラム(敬称略)
10:00-11:45 「クリーン化技術の動向と局所クリーン化生産システム
産業技術総合研究所 原 史朗
12:45-13:35 「エアロゾル計測とコンタミ制御」
金沢大学 大学院自然科学研究科 瀬戸章文
13:45-14:35 「プロセス装置用EFEMのクリーン化技術の現状と将来, 気流制御の効果について」
ローツェ(株) FA事業本部 坂田勝則
14:45-15:35 「クリーン環境の温度湿度制御の実例」
三機工業(株) 技術開発本部研究開発部 植村聡
15:45-16:35 「マンマシンインターフェース:ロードポートの実例」
TDK(株) 生産技術開発センター 宮嶋俊彦
■ 講演会についてのコメント:今回は、第一線でご活躍なさっている方々を講師としてお迎えし、局所クリーン化の現状について、全容を把握できるプログラムとしました。





■ 主催:セミコンダクタポータル
■ 協賛:SUSS MicroTec、AiT、半導体エコ物流プロジェクト
■ 後援:SEMIジャパン、九州半導体イノベーション協議会, (財)福岡県産業・技術振興財団, (財)九州経済調査協会, (財)北九州産業学術推進機構, (財)大分県産業創造機構, (財)くまもとテクノ産業財団
■ 日時: 平成19年4月19日(木) 10:00〜18:00
■ 会場:福岡国際会議場(福岡県・博多区)
■ セミナーテーマ: Advanced Business Model for semiconductor Seminar (ABMS) セミナー 〜次世代後工程・テスト、MEMSの『儲かる』ビジネスモデル創出〜
■ 講演講師:友影肇(福岡大), 小切間正彦(メムス・コア), R.Lanzone(AMKOR), 原 史朗(産総研) (敬称略), 他
■ 産総研・原の講演題目:「中小企業でも可能なクリーン化技術」 (16:15-17:00)
■ セミナーのご案内ページ: ズース・マイクロテック情報ページ
■ セミナーの狙い:
 ウエハレベルパッケージング、次世代テスティング、MEMSなど半導体のファイナルマニュファクチャリングに関係する先端技術分野における 新しいビジネスモデルの創出が必要とされています。 優れた人材とインフラ、さらに経験を持った半導体後工程やMEMSの関連企業にとって、 世界を市場にビジネスを展開することが求められています。 半導体後工程・テスト、MEMSの新規ビジネスモデルの創出を目指し本セミナーでは、 地域の特性を生かした新たな半導体後工程ビジネスを構築する指針やアイデアを提供することを目指します。 2007年から2009年は九州各地区での開催により、半導体の次世代後工程、テスト、MEMSの先端技術情報、国内外の成功しているビジネスモデルの情報を提供し、 それぞれのネットワークを通し、産業会、大学・研究機関、地方政府関連組織との成果のあるパートナーシップの構築や、 装置メーカ・材料メーカ・ソフトメーカーなどとWin-Winのアライアンスの促進を目指します。 新しいビジネスモデル構築を目指す企業の方々に豊富な情報と人的交流の機会をご提供いたします。





■ 主催: (財)製造科学技術センター IMSセンター
■ 日時: 平成19年3月26日(月) 10:00〜17:00
■ 会場: 虎ノ門パストラル(東京・港区虎ノ門)
■ ワークショップテーマ:第1回 日欧研究開発推進会議 Japan-Europe Promotion Workshop of Collaborative Research, 1st round
■ 講演団体:
日本: 製造科学技術センター, 経済産業省, 産総研, 福井大・日産自動車
欧州: EC, LEIA, Manufuture project, ENIAC project, CTI-International, Virthualis, SEA-NET, Fatronik, I*PROMS project,
■ 議題:
1. 日本からの提案(サステナブル・マニュファクチャリング)
2. 欧州からの提案(テクノロジー・プラットフォーム)
3. 戦略ロードマップ基本方針の考え方
4. 研究開発の具体例
5. 共同研究開発のテーマの絞り込み
■ 産総研・原の講演題目:「Encapsulated Manufacturing System for Sustainable Manufacturing」
■ フォーラムのご案内ページ: ワークショップ情報ページ@IMSセンター





■ 主催: セミコンダクタポータル
■ 日時: 平成19年3月23日(金) 13:15〜17:30
■ 会場: TEPIA(機械産業記念館)(東京・港区北青山)
■ フォーラムテーマ:セミコンダクタポータルフォーラム: Total Process Solutionシリーズ第3回 〜半導体の表面性状を考える〜
■ 講師:原 史朗(産総研), 嶋崎綾子(東芝), 稲垣雅一(カシオマイクロニクス), 柚木原正敏(セミツール・ジャパン), 園田信夫(三菱電機) (講演順・敬称略)
■ 産総研・原の講演題目:「不良排除のためのファブシステムのイノベーション」
■ フォーラムのご案内ページ: セミコンダクタポータル情報ページ





■ 主催: プレスジャーナル
■ 日時: 平成19年3月6日(火) 10:00〜17:30
■ 会場: 学士会館(東京・千代田区)
■ シンポジウムテーマ:07春季FPDシンポジウム: LCD部材技術Innovation 〜複合材料も登場。激化する材料メーカー各社の技術戦略〜
■ 基調講演講師:原 史朗(産総研)
■ 基調講演題目:「LCD生産の新ビジネスモデル, トータルでの低コスト化・高効率化を実現」 〜部材だけの低コスト化ではない, トータル的な取り組みで競争力を強化〜
■ その他講師:北原洋明テック・アンド・ビズ代表(元IBM)他
■ シンポジウムのご案内ページ: プレスジャーナル情報ページ





■ 主催: 技術情報協会
■ 日時: 平成18年11月29日(水) 12:30〜16:30
■ 会場: きゅりあん(東京・大井町)
■ テーマ: 「「クリーン化」を正しく行うための基礎入門講座」
■ 講師: 原 史朗(産総研)
■ 講座の趣旨
 クリーン化は古くて新しいテーマです。 目に見えないだけにきちんと知識を身につける必要があります。 その一方で、クリーン化は日進月歩の世界です。 具体的には以下のようなトレンドの移り変わりが見られます。 パーティクル汚染→ケミカル汚染、ボールルーム方式→局所クリーン化、 デジタル歩留まり→アナログ歩留まり、歩留まり向上→生産性向上、 汚染の絶対量管理→時間管理、製造物汚染防止→人体への危害防止、などがその例です。  本セミナーでは、「クリーン化技術は何故必要か?」、 「何が汚いのか?」という基本的疑問にお答えしながら、知っておくべき単位や方式の説明、 そして、上述の最近のトレンドまで、幅広くクリーン化技術を解説・展望してゆきます。





■ 主催: ピューリフィケーション研究会
■ 日時: 平成18年11月10日(金) 10:00〜17:00
■ 会場: アスクビル(福岡市博多区)
■ テーマ: 「ピューリフィケーション研究会 第11回SOPTシンポジウム」
■ 講師: 稲永健(シーズシー), スティーブン・サムナー(Entegris), 亀山雅臣(ニコン), 原 史朗(産総研), 大屋敷靖(日本インテグリス) (発表順, 敬称略)
■ 産総研・ 原の講演題目:
「ウェーハコンタミネーションの原子スケール制御」(質問時間含め1時間)





■ 主催: 産業技術総合研究所
■ 日時: 平成18年7月11日(火) 13:00〜17:30
■ 会場: 国際連合大学ウ・タント国際会議場(東京都渋谷区神宮前)
■ テーマ: 「ミニマルマニュファクチャリング シンポジウム」
■ 概要:  独立行政法人産業技術総合研究所では、環境との調和を図りつつ、高い国際競争力を有する我が国の製造産業の持続的な発展を実現するには、 「最小の資源」「最小のエネルギー」「最小の廃棄物」で「最大限の機能・特性」を発揮する製品を 「高効率」で作る生産プロセス技術(ミニマルマニュファクチャリング)の確立が不可欠であるため、 材料技術と製造技術とを一体化したこの技術コンセプトおよび、これらを統一的に評価できる指標について検討を行ってきました。  その緒といたしまして、「ミニマル・マニュファクチャリング」シンポジウムとして開催しました。

■ プログラム(敬称略)
13:00 開会
13:10 基調講演「持続発展可能な社会におけるものづくり」
吉川弘之(産業技術総合研究所 理事長)
五十嵐一男(産業技術総合研究所 研究コーディネーター)
14:00 ショートプレゼンテーション
「ミニマル・マニュファクチャリングへの領域統合的アプローチ」
 上田完次 (東京大学人工物工学研究センター センター長)
「徹底して無駄を排除した生産システムの考え方」
 木村文彦 (東京大学大学院工学系研究科 教授)
「ミニマル・マニュファクチャリング -成功の要諦-」
 原 邦彦 (コンポン研究所 常務取締役)
「マイクロ流体プロセスによる低エネルギー工業の創生」
 下田 達也 (セイコーエプソン 研究開発部 フェロー)
「ミニマルな製造を実現する生産システム技術〜局所クリーン化」
 原 史朗 (ミニマル・マニュファクチャリングWG)
「大型セラミック部品を製造ツールとして『作る』『使う』ことのミニマル化」
 北 英紀 (ミニマル・マニュファクチャリングWG)
15:30 休憩
15:45 パネルディスカッション
「ミニマル・マニュファクチャリングの可能性と課題」
 モデレーター:五十嵐一男 (研究コーディネーター)
 パネリスト: 上田完次 (東京大学教授)
 木村文彦 (東京大学教授)
 原 邦彦 (コンポン研究所)
 下田達也 (セイコーエプソン)
 原 史朗 (ミニマル・マニュファクチャリングWG)
 北 英紀 (ミニマル・マニュファクチャリングWG)
 山口智彦 (ミニマル・マニュファクチャリングWG)
17:25 閉会

■ シンポジウムポスター[PDF] (430kB)





■ 主催: SEMIジャパン
■ 日時: 平成18年6月12日(月) 11:15〜17:45
■ 会場: グランキューブ大阪(大阪国際会議場)
■ テーマ: 「マニュファクチャリングサイエンスセミナー」
■ 講師: 湯之上隆(同志社大), 原 史朗(産総研), 富松信二(アドバンテスト), 瀬戸屋孝(東芝), 津田英隆(富士通LSIテクノロジ), 平野頼(Spansion Japan), 坂本浩一(東京エレクトロン) (発表順, 敬称略)





■ 主催: ピューリフィケーション研究会
■ 日時: 平成18年6月9日(金) 9:50〜17:00
■ 会場: 福岡朝日ビル(福岡市博多区)
■ テーマ: 「ピューリフィケーション研究会 第9回SOPT Q&Aセミナー」
■ 講師: 定光信介(SUMCO), 原 史朗(産総研), 芥河千恵子(日本インテグリス) (発表順, 敬称略)





■ 主催: 技術情報協会
■ 日時: 平成18年3月24日(金) 10:00〜17:15
■ 会場: 北とぴあ(東京・王子)
■ テーマ: 「不良低減のための局所クリーン化の最新トレンド技術」
■ 講師: 原 史朗(産総研), 園田信夫(三菱電機), 木崎原 稔郎(日本ケンブリッジフィルター), 大屋敷 靖(日本インテグリス) (発表順, 敬称略)





■ 主催: 日本工業出版(株)
■ 日時: 平成18年2月24日(金) 9:30〜16:50
■ 会場: 機械振興会館(東京・芝)
■ テーマ: 「パーティクル計測技術」
■ 講師: 大谷吉生(金沢大), 宮田雄二(日本カノマックス), 片桐拓朗(日本品質保証機構), 原 史朗(産総研), 服部毅(ソニー), 八巻由考/遠藤睦子(野村マイクロ・サイエンス), 近藤郁(リオン), 吉田勇喜(関東化学) (発表順, 敬称略)





■ 主催: リアライズAT(株)
■ 日時: 平成18年2月22日(水) 10:00〜16:00
■ 会場: 熊本県テクノポリスセンター
■ テーマ: 「新世代の局所クリーン化生産技術 〜歩留まりと生産性向上へのキーテクノロジーの最新動向」
■ 講師: 産業技術総合研究所 原 史朗





■ 主催: リアライズAT(株)
■ 日時: 平成17年11月9日(水) 10:00〜16:00
■ 会場: 飯田橋レインボービル(東京・飯田橋)
■ テーマ: 「新世代の局所クリーン化生産技術 〜歩留まりと生産性向上へのキーテクノロジーの最新動向」
■ 講師: 産業技術総合研究所 原 史朗





■ 主催: 工業技術会(株)
■ 日時: 平成17年7月27日(水) 10:00〜16:40
■ 会場: 東京 半蔵門 JCIIビル(東京都千代田区一番町25)
■ テーマ: 「半導体・液晶製造プロセスにおける清浄度管理・汚染対策の技術動向」
■ 予定プログラム(敬称略)
[1] 10:00-11:10 「総論:クリーンルームの技術動向と今後の展望」
産業技術総合研究所 原 史朗
[2] 11:15-12:25 「FOUPの標準化と実際の運用」
信越ポリマー(株) 精密製品事業部 古川幹雄
[3] 13:05-14:15 「先端ラインでのクリーン化技術とその事例」
(株)東芝 半導体プロセス開発第4部 嶋崎綾子
[4] 14:25-15:35 「SMIF/FOUPを用いたクリーンルームにおける化学汚染制御」
セイコーエプソン(株) IC・CS品質保証部 村上裕昭
[5] 15:40-16:50 「半導体・液晶製造プロセスによる搬送システムと汚染対策」
村田機械(株) L&A事業部 クリーンSE部 山本眞





■ 主催: (社) 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会
■ 日時: 平成17年7月14日(木) 10:20〜17:00、15日(金) 10:00〜16:00
■ 会場: 東京工業大学百年記念館(東京都目黒区大岡山)
講演会テーマ: 「最先端デバイスの界面制御と電子構造」
講師(講演順):石原宏(東工大教授)、関一彦(名大教授)、柳田祥三(阪大教授)、大島良久(サイバネットシステム)、白石賢二(筑波大助教授)、池田稔(産総研)、尾嶋正治(東大教授)、細野秀雄(東工大教授)、原史朗(産総研)、猪俣浩一郎(東北大教授)
■ 内容:
エレクトロニクス・通信技術の高度化に伴い、新しい光・電子機能材料とそれらを利用したデバイスの開発が重要な研究課題になっています。 High-kゲート絶縁膜、有機ELや色素増感太陽電池などに見られるように、近い将来のオプトエレクトロニクスでは、酸化物、有機物を含む様々な新材料と半導体の接合を制御する必要があります。 その一方で、異種材料界面の電子構造はよくわかっておらず、実験的にデバイス構造の最適化をしているのが現状です。 本セミナーでは、異種材料界面の電子構造と応用について、第一線の先生方を講師としてお招きし、実験と理論の両面から、現在の研究課題、応用と、将来展望について紹介していただきます。 たくさんの方々のご参加をお待ちしています。
■ 講演会のご案内ページ: 薄膜・表面分科会 情報ページ
■ 産総研・ 原の講演題目:
「界面制御による電子構造制御 - デバイス特性をどこまで制御できるのか」(質問時間含め1時間)





■ 主催: (社) 日本空気清浄協会
■ 日時: 平成16年10月6日(水) 14:30〜16:00
■ 会場: 学士会分館(東京都文京区本郷)
■ テーマ: 「クリーン化技術の現状と今後〜ジーパンでICを製造する世界がやってくる」
産業技術総合研究所 原 史朗
■ 内容:  ジーパンでICを製造する〜このCR技術と半導体産業の変革をどこまで真実として認識できるか。本講演では、その背景と技術的ポイントについて総括的に解説する。
■ 講演会のご案内ページ: 日本空気清浄協会イベント情報ページ
※この講演会は、原則空気清浄協会の会員向けです。空席がある場合のみ、非会員の方のご聴講が可能です。





■ 主催: 情報機構
■ 日時: 平成16年8月26日(木) 10:30〜16:30
■ 会場: 東京・大手町
■ プログラム
[1] 10:30-13:00
「局所クリーン化技術の最近の動向と応用技術〜ジーンズをはいてIC製造を可能にする新技術」
産業技術総合研究所 原 史朗
[2] 13:45-16:30
「300mm局所クリーン化の標準化技術と実際の運用」
信越ポリマー(株) 精密製品事業部 古川幹雄





■ 主催: 技術情報協会
■ 日時: 平成16年3月30日(火)、31日(水) 両日とも 10:30〜16:30
■ 会場: 東京・大手町 きゅりあん 5F 第一講習室
■ プログラム
[1] 3/30 10:30-13:00
「クリーン化技術の現状と実際〜スーパークリーンテクノロジーと局所クリーン化技術」
産業技術総合研究所 原 史朗
[2] 3/30 14:00-16:30
「FOUPを利用した300mm 半導体製造プロセスのクリーン化技術」
信越ポリマー(株) 精密製品事業部 古川幹雄
[3] 3/31 10:30-13:00
「半導体製造およびFPD製造における不良低減(パーティクル発生要因とその対策」
東京エレクトロンAT(株) 守屋剛
[4] 3/31 14:00-16:30
「クリーンルームにおけるケミカル汚染の分析」
新日本空調(株) 技術研究所 神戸正純




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Last updated: Sep. 11, 2010. Shiro HARA's Web Site