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• 環境浄化技術
• 光触媒（合成、反応解析、応用、標準化）

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• １９９４年３月 東京工業大学理学部化学科卒業
• １９９６年３月 東京工業大学大学院総合理工学研究科化学専攻　修士課程修了
• １９９９年３月 同　博士課程修了　博士(理学)

• １９９９年　４月　工業技術院資源環境技術総合研究所　温暖化制御部光利用研究室　研究官
• ２００１年　４月　産業技術総合研究所環境管理研究部門　光利用研究グループ　研究員
• ２００４年　５月　環境管理技術研究部門　光利用研究グループ　研究員
• ２００５年９月～２００６年５月　フランス国立科学研究センター(CNRS) 客員研究員
• ２００７年　２月　イノベーション推進室　企画主幹　
• ２００８年　２月　環境管理技術研究部門　光利用研究グループ　研究員
• ２００８年１０月　環境管理研究部門　主任研究員　
• ２０１９年１０月　反応場設計研究グループ　グループ長
• ２０２０年　４月　環境創生研究部門に組織変更　グループ長
• ２０２０年　９月　内閣府　科学技術・イノベーション推進事務局　
•          統合戦略グループ　ディレクター
• ２０２０年１０月　環境創生研究部門　総括研究主幹
• ２０２０年１１月　反応場設計研究グループ　グループ長 (兼務)

1. T. Sano, H. Sato, T. Hori, T. Hirakawa, Y. Teramoto, K. Koike, Effects of Polymeric- and Electronic-Structure of Graphitic Carbon Nitride (g-C3N4) on Oxidative Photocatalysis，Mol. Cat. 2019，474，110451.

2. T. Sano, K. Koike, T. Hori, T. Hirakawa, Y. Ohko, K. Takeuchi, Removal of Methyl mercaptan with Highly-Mobile Silver on Graphitic Carbon-Nitride (g-C3N4) Photocatalyst，APPL. CAT. B:ENVIRON.，2016, 198，133-141.

3. T. Sano, S. Tsutsui, K. Koike, T. Hirakawa, Y. Teramoto, N. Negishi, Activation of Graphitic Carbon Nitride (g-C3N4) by Alkaline Hydrothermal Treatment for Photocatalytic Air Purification，J. Mater. Chem. 2013, 1, 6489-6496.

4. T. Sano, S. Tsutsui, K. Koike, T. Hirakawa, Y. Teramoto, N. Negishi and K. Takeuchi, J. Mater. Chem. A, 2012, 128, 77-83.

5. T. Sano, N. Mera, Y. Kanai, C. Nishimoto, S. Tsutsui, T. Hirakawa and N. Negishi, Appl. Catal., B, 2012, 128, 77-83.

6. T. Sano, E. Puzenat, C. Guillard, C. Geantet, S. Matsuzawa and N. Negishi, J. Phys. Chem. C, 2009, 113, 5535-5540.

7. T. Sano, E. Puzenat, C. Guillard, C. Geantet and S. Matsuzawa, J. Mol. Catal. A: Chem., 2008, 284, 127-133.

8. T. Sano, N. Negishi, E. Sakai and S. Matsuzawa, J. Mol. Catal. A: Chem., 2006, 245, 235-241.

9. T. Sano, N. Negishi, K. Takeuchi and S. Matsuzawa, Solar Energy, 2004, 77, 543-552.

10. T. Sano, N. Negishi, K. Koike, K. Takeuchi and S. Matsuzawa, J. Mater. Chem., 2004, 14, 380-384.

11. T. Sano, N. Negishi, K. Uchino, J. Tanaka, S. Matsuzawa and K. Takeuchi, Journal of Photochemistry and Photobiology a-Chemistry, 2003, 160, 93-98.

12. T. Sano, S. Kutsuna, N. Negishi and K. Takeuchi, J. Mol. Catal. A: Chem., 2002, 189, 263-270.

13. T. Sano, N. Negishi, S. Kutsuna and K. Takeuchi, J. Mol. Catal. A: Chem., 2001, 168, 233-240.

14. T. Sano, N. Negishi, D. Mas and K. Takeuchi, Journal of Catalysis, 2000, 194, 71-79.

1) 太陽光を利用した大気浄化方法及びその装置特 4081546、2008/02/22

2) 窒素含有酸化チタン系光触媒及びそれを用いる環境汚染ガスの浄化方法，特 4147300、2008/07/04

3) 大気浄化用光触媒材料の自動性能評価装置，特 5013399、2012/06/15

4) 化学兵器剤の除染剤、除染方法および除染装置，特 5540170、2014/05/16

5) 窒化炭素を含む光触媒及びその製造方法並びに該光触媒を用いた空気浄化方法，特 5582545、2014/07/25

6) グラファイト状窒化炭素の製造方法，特 5582527、2014/07/25

7) 水素製造装置、及びそれを用いた水素製造方法，特 6019319、2016/10/14

8) ＴｉＯ２複合化多孔質シリカ光触媒粒子の製造方法及びＴｉＯ２複合化多孔質シリカ光触媒粒子，特 6188185、2017/08/10

9) 脱臭用金属複合化窒化炭素とその製造方法，特 6521317、2019/05/10

1) ガス中に含まれる有機物質の連続的な分解除去方法，特願2002-258045、2002/09/03

2) 窒素含有酸化チタン系光触媒及びそれを用いる環境汚染ガスの浄化方法，特願2002-307990、2002/10/23

3) 太陽光を利用した大気浄化方法及びその装置，特願2003-148951、2003/05/27

4) 大気浄化用光触媒材料の自動性能評価装置，特願2006-256646、2006/09/22

5) ポリオレフィン系樹脂成形体の光触媒コーティング方法，特願2006-333335、2006/12/11

6) 塗料ミスト除去装置，特願2009-016979、2009/01/28

7) 塗装ブース内に配置する塗料ミスト及びＶＯＣガス除去装置，特願2009-147399、2009/06/22

8) 塗装ブース内に配置する塗料ミスト及びＶＯＣガス誘導装置，特願2009-147400、2009/06/22

9) 化学兵器剤の除染剤、除染方法および除染装置，特願2009-232609、2009/10/06

10) 窒化炭素を含む光触媒及びその製造方法並びに該光触媒を用いた空気浄化方法，特願2009-241049、2009/10/20

11) 金属を内包する窒化炭素とその製造方法，特願2010-066027、2010/03/23

12) スプレーガン用フード及びスプレーガンユニット，特願2010-143394、2010/06/24

13) 窒化炭素を含む光触媒及びその製造方法並びに該光触媒を用いた空気浄化方法，特願2011-537262（特願2009-241049 2009/10/20）、2012/04/06

14) 水素製造装置、及びそれを用いた水素製造方法，特願2012-105361、2012/05/02

15) ＴｉＯ２複合化多孔質シリカ光触媒粒子の製造方法及びＴｉＯ２複合化多孔質シリカ光触媒粒子，特願2012-168075、2012/07/30

16) 脱臭用金属複合化窒化炭素とその製造方法，特願2015-236857、2015/12/03

17) Ｐｄ－Ｒｕナノ複合粒子担持体、ＣＯ酸化触媒およびＰｄ－Ｒｕナノ複合粒子担持体の製造方法，特願2018-056966、2018/03/23

18) 複合金属ナノ粒子担持体の製造方法，特願2018-056967、2018/03/23

19) 光触媒及びその製造方法，特願2019-236805、2019/12/26

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