中村 健（Ken Nakamura）
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央事業所2群 2-10棟
TEL：029-861-5300（部門代表電話）
E-mail：ken.nakamura*aist.go.jp（*を@に変更して使用してください。）
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- 1983年4月 東京大学教養学部理科II類入学
- 1986年4月 東京大学理学部化学科進学
- 1988年3月 同上 卒業
- 1990年3月 東京大学大学大学院理学系研究科修士課程化学専攻修了
- 1988年 8月 国家公務員I種採用試験（化学）合格．
- 1990年 4月 工業技術院電子技術総合研究所（電総研）に採用．
- 1990年 4月 ～1997年9月 企画室、極限技術部表面制御研究室、極限技術部を経て
- 1997年 10月 ～2001年3月 極限技術部主任研究官
- 2001年 4月 独立行政法人産業技術総合研究所（産総研）へ出向．
- 2001年 4月 ～2005年3月 エレクトロニクス研究部門、極微プロファイル計測研究ラボ、計測フロンティア研究部門を経て
- 2005年 4月 ～2006年3月 企画本部 企画主幹
- 2006年 4月 ～2010年9月 計測フロンティア研究部門 活性種計測技術研究グループ 主任研究員．
- 2010年 10月 ～2013年4月 同研究部門 同研究グループ長．
- 2013年 5月 ～2015年3月 同研究部門 ナノ顕微分光グループ長．
- 2015年 4月 国立研究開発法人産業技術総合研究所（産総研）に改称．（独法通則法及び個別法改正）
- 2015年 4月 ～2020年3月 計量標準総合センター 分析計測標準研究部門 ナノ分光計測研究グループ長．
- 2020年 4月 ～2022年3月 同総合センター 同研究部門 応用ナノ計測研究グループ 上級主任研究員．
- 2022年 4月 ～2024年3月 同研究グループ長．
- 2024年 4月 ～現 在 同総合センター 同研究部門 キャリアエキスパート．（定年延長による異動）
- この間
- 2015年 8月 ～2021年3月 つくばイノベーションアリーナ（後のTIA）推進センター 共用施設ステーション付（兼務）（先端ナノ計測施設(ANCF)担当）．
- 2016年 5月 ～2018年3月 計量標準総合センター 分析計測標準研究部門 ナノ顕微計測研究グループ長（兼務）．
- 2021年 4月 ～2023年9月 TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション付（兼務） （先端ナノ計測施設(ANCF)リーダー）．
- 2023年10月 ～2024年3月 計量標準総合センター 分析計測標準研究部門付（兼務）．
- 2021年 4月 ～現 在 先端ナノ計測施設（ANCF）（ウェブサイト）施設管理者
- 誌上発表（解説等を含む）→報文目録
- 口頭発表 (1990～2023)
- 国際学会： 50件（うち筆頭21件：IVC/ICSS-2件・AVS-9件・ECOSS-5件・VASSCAA-1件・その他-4件）
- 国内学会：104件（うち筆頭47件：応物25件・応物(研究会)5件・真空/表面科学15件・物理2件）
- その他研究集会： 26件（うち筆頭12件）
- 知的財産権
- 特許：国内出願4件（うち登録2件）
- 取材記事
- 「SHG法による固体表面評価システムを開発－電総研」 O plus E 161 (1993) pp.47-48 ((株)新技術コミュニケーションズ) ほか